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等離子除臭設備

日期:2011-12-16 瀏覽:

等離子除臭設備

    等離子除臭設備處理臭味及揮發性有機物的主要過程是:將廢氣引入凈化區的同時,電器控制元件通過微波傳輸在凈化區放電,使氣體電離,在凈化區內產生大量等離子體。因此,等離子除臭設備主要由兩大部分組成:
1)電器控制部分 由大規模集成電路、集成模塊、半導體元器件組成,產生加速,發射,調控,自動保護電路。
2)凈化區部分 由極棒、鉬絲及附件組成等離子方陣構成諧振區,分解區,氧化區,收集區。裝置由不銹鋼材、銅材、鉬材、環氧樹脂等加工而成。
一、主要技術標準:
使用電壓:220V;
工作電壓:80V—250V;
工作頻率:30GHZ—300GHZ;
耗 電 量:處理1000m3/h,耗電0.25千瓦;
工作溫度:250℃以下,-50℃以上;
環境溫度:-50℃~50℃;
工作濕度:適應飽和水霧環境;
凈 化 率:75-95%(不同成分的氣體去除率有所不同);
滅 菌 率:100%;
規    格:1800mm×500mm×3300mm;或根據處理的氣量、濃度及場地情況設計。
二、去除原理
    等離子體是物質存在的第四形態。它是由電子、離子、中性原子、激發態原子、光子和自由基等組成。等離子體是電離度大于0.1%,且其正負電荷相等的電離氣體。電子和正離子的電荷數相等,整體表現出電中性。
    等離子體凈化技術的主要機理是:在外加電場的作用下,電極空間里的電子獲得能量后加速運動,以每秒鐘300萬次至3000萬次的速度去撞擊異味氣體分子,當電子的能量與異味氣體分子的某一化學鍵鍵能相同或略大時,發生非彈性碰撞,電子將大部分動能轉化為污染物分子的內能,從而引發了使其發生激發、離解或電離等一系列復雜的物理、化學反應,使得產生臭味的基團化學鍵斷裂,再經過多級凈化而達到除臭目的。
其主要過程可通過以下反應式表達:(XY-污染物分子,e-電子)
1)激    發:  e XY  —— XY* e
2)中性離解:  e XY —— X Y e
3)直接離子化:e XY —— XY2e
4)離子化離解:e XY —— X Y2e,Y X 2e
5)形成負離子:e XY —— XY-  (電子吸附)
               e XY —— XY-  (離解吸附)
中性離解和離子化離解產生大量帶有未成對電子的中性基團,使等離子體具有活潑的化學反應性。
 

 

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